Vysoké Vákuové Plazmové naprašovacie Zariadenie

Polovodičové keramické substrátov poťahovacie Zariadienie prijíma vysadu vysoko vákuového elektrického poľa plazmatického plyzinu apooza Ionizuje ho do argónového toku pod Pôsobením Vysokého napätia. Tieto Vysokoenergetické argónové ióniu sa Zrýchli a bombardú cieľovýl v Smere, take atómy na pov povrchu cieľového materiálu kremicko „napraji, tlsen Komponzitnú vrstvu z Medi-kmetállnu kus a silnou adhéziou.
Keramické keramické substrátové Vybavenie Je Kľuchovým predprípadom v Technológii Spracavania Keramického substrátu DPC, Ktorá Položí Solídny Zeklad pre Najslednos výrobu obrodov, Graficky Pref Aunkč v integráciu. Prostredniectvom Vysoko presného ukladania kovovej vrstvy keramický substrát Nielen Dosahyje Vynikajecu Vodivosť, ale Máž, päsiu tepelnú stabilitu Šičkovýč Aplikácií, ako 5g Komunikácia, Automobilová elektronika a energetické moduly pred Výkon substrátu.
Počas procecesu ukladania kovovej vrstvy Budú Akékoľvek Nečistoty vážne ovniť štrukturálnu stabilitu, elektrické vlastnosti a priľnavosť uloženej vrstvy. Preto je toto Zariadienie Vybavén Systémom Vysoekej vákuovej Obalovej Komory a Stupeň Vákua môchý Dosiahnuť úroveň 10⁻⁵ pa. Prostredniectvom Prepojania Vysokouchukinného molekurkneho Čerpadla A Mechanického Čerpadla pre výfuk, ViacvrstvOVá Tesniaka Štruktúra, Zabránia Sa únik Plynu, Vnesetorárá Šaj Štíršky Adsorpcie Sú Zniežén, Aby sa Zabezpečila čistota a obzvlášť pri depoziči prostredí bez istoty oxidačnej Zariadenia S Extremne Vysokými požidavkami na Čistotu a Konzistantnosť.
TOTO ZARIADENIE PRIJÍKA SYSTÉM ZDROJOVÉHO IONOVÝCH IONOV S PRESNOSťOU Kontrolovanym v Plazme, Ktore SA MOLESE AUTOMATICKY AUTOMATICKÝ PORAVOVA, PODľAA Rôznych Ciejýč Táto Vysoko Kontrolovateľná Štruktúra volja iónov môjej Dosiahnuť rvnomernejšiu Rozvodov Distribúci Konzistencie Kovovej KomponzijJ vrstvy na povrchu Celého keramického substrá je menšia ako ± 3%, čo Je OBZvLyšť vodnie pred stabilnú výrobu veľkych
S Cieľom uspokojiť potreby spracovania Zákazníkov pre keramické substrát Môchý flexibilne Nahradiť Doplnok substrátu, Rozšiovacie Rozhranie Podpory dvojité Nastavenie Alebo paralelné Rozložijie Viaceých Ciest.
RiadiaCi Systém Môje predložiť rôzne parametre procecesov a Rýchlo prepnesť ŠARŽE PRODUKTU. Táto Štruktúra Nielen Zlepšuj flexibilitu Využívania Zariadení, Ale Pripníniny Produktových Modelov Výrazne Znižjeje utavia Stroja a manuáLne intervenček Náklady. Je Veľmi Vhodny Pre oem, Výrobu Vedeckých Výskumých Pokusov A HromadNú Výrobu Kompatibilných A paralelných Výrobnych Prostredí.
Systém Napájacieho Zariadenia Napájacieho Zariadenia s Keramickým substrát na dodávku napesájeho substráttu prijíma logiku riadi o 15 Porovnaní s tradičým zariadením na pokovovanie iónov. Zároveň Málovo mechanizmus optimalizácie Spustenia a optimalizacie pohotovosti, automatickú úpravu energie po stabilizecii procecesu a znižje NadMernu Spotrebu energie. Voliteľná Konfigurácia S Viacerými Drážkami môje Dosiahnuť 24-Hodinovú Nepretžitú Nepretžitú Výrobu. Je OBZVLLASť Vhodny pre Zákazníkov na hromadnos výrobu keramického substrá, ktorí so Spotrebu energetiky na jedálnie a Maj z Maji Vysoké. 5G Komunikačné Vybavie a Výrobcovia energetickych modulov.